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激光打标设备的核心是激光打标控制系统,因此,激光打标的发展历程就是打标控制系统的发展过程。从1995年到2003年短短的8年时间,控制系统在激光打标领域就经历了大幅面时代、转镜时代和振镜时代,控制方式也完成了从软件直接控制到上下机位控制到实时处理、分时复用的一系列演变,激光打标机设备,如今,半导体激光器、光纤激光器、乃至紫外激光的出现和发展又对光学过程控制提出了新的挑战。
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激光器由封闭在泵浦腔中的工作介质和泵浦源构成。泵浦源将工作介质从能量基态“泵浦”到激发态。如果在两激发能级间实现“粒子数反转”,则可产生受激辐射,通过在光学谐振腔中谐振(来回反射)得到放大,其中一部分放大了的电磁辐射输出就形成了激光。光学扫描器分为x方向扫描系统和y方向扫描系统,每个伺服电机轴上固定着激光反射镜片。
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